Regensburg 2002 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 26: Postersitzung (Rastersondentechniken, Nanostrukturen, Teilchen und Cluster, Methodisches, Oxide und Isolatoren, Grenzfl
äche fest-flüssig, Struktur und Dynamik reiner Oberfl
ächen, Oberfl
ächenreaktionen, Zeitaufg. Spektroskopie, Phasenüberg
änge

O 26.51: Poster

Wednesday, March 13, 2002, 14:30–17:30, Bereich C

Elektrochemische Deposition von Co auf Cu(001) — •Frank van Dijk, Ruben Sharp, Peter Broekmann, Herbert Wormeester und Bene Poelsema — MESA+ Research Institute, University of Twente, The Netherlands

In situ STM Ergebnisse der elektrochemischen Deposition von Co auf Cu(001) in einer chloridhaltigen wäßrigen Lösung (8 mM KCl, 1mM CoCl2) werden vorgestellt. Es hat sich erwiesen, daß eine Erhöhung des pH-Wertes entscheidend ist, um die Kobaltdeposition auf Cu(001) zu ermöglichen, ohne daß diese von einer massiven Wasserstoffentwicklung beeinträchtigt wird. Eine Vorbedeckung von Chloridanionen wird benutzt, um die Oberfläche von einer Oxidschicht zu befreien. Hierbei wird die Cu(001) Oberfläche mit einer 10 mM HCl wäßrigen Lösung vorbehandelt. STM Ergebnisse deuten auf eine Oberflächenlegierungsbildung von Kobalt und Kupfer hin. Es erweist sich, daß der Abscheidungs- und Auflösungsprozeß nach einiger Zeit des Zykelns reversibel wird. Es werden Struktur und Morphologie von Kobaltfilmen verschiedener Dicke vorgestellt.