Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 32: Adsorption an Oberfl
ächen (IV)
O 32.11: Vortrag
Donnerstag, 14. März 2002, 18:00–18:15, H43
Die lokale Adsorptionsstruktur von CH3 auf Cu(111) — •J.T. Hoeft3, M. Pascal1, C.L.A. Lamont1, J. Robinson2, R.L. Toomes2, J.-H. Kang2, D.P. Woodruff2,3, L. Constant3, S. Bao3, M. Kittel3 und M. Polcik3 — 1University of Huddersfield, Huddersfield HD1 3DH, UK — 2University of Warwick, Coventry CV4 7AL, UK — 3Fritz-Haber-Institut der MPG, Faradayweg 4-6, 14195 Berlin, DE
Methyl ist ein wichtiges Intermediat in vielen Oberflächenreaktionen,
über dessen Adsorptionsgeometrie jedoch nur dürftige Informationen
verfügbar sind. Wir zeigen Ergebnisse experimenteller wie theoretischer
Untersuchungen der Adsorptionsgeometrie von CH3 auf Cu(111). Die
Experimente basieren auf Photoelektronenbeugungs-Messungen (PhD) am
C1s-Peak sowohl einer nur mit Methylionen dosierten Adsorbatlage
wie auch einer Koadsorptionsphase aus der Oberflächendissoziation
von Methyljodid (CH3I).
Das koadsorbierte Jod besetzt die fcc-Lochplätze und hat nur
geringe Auswirkungen auf die Adsorptionsgeometrie des Methyls,
welches ebenfalls fcc-Lochplätze belegt.
Dichtefunktionaltheoretische Berechnungen (DFT-GGA mit ultraweichen
Pseudopotentialen unter Anwendung des CASTEP-Codes) bestätigen
die Präferenz einer Adsorption in den Lochplätzen (obgleich
mit leichter Tendenz zum hcp-Platz). Die Ergebnisse der
Rechnungen geben einer Orientierung der C-H-Bindungen entlang der
dichtgepackten Kupfer-Reihen klaren Vorzug.