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O: Oberflächenphysik

O 32: Adsorption an Oberfl
ächen (IV)

O 32.11: Vortrag

Donnerstag, 14. März 2002, 18:00–18:15, H43

Die lokale Adsorptionsstruktur von CH₃ auf Cu(111) — •J.T. Hoeft³, M. Pascal¹, C.L.A. Lamont¹, J. Robinson², R.L. Toomes², J.-H. Kang², D.P. Woodruff^2,3, L. Constant³, S. Bao³, M. Kittel³ und M. Polcik³ — ¹University of Huddersfield, Huddersfield HD1 3DH, UK — ²University of Warwick, Coventry CV4 7AL, UK — ³Fritz-Haber-Institut der MPG, Faradayweg 4-6, 14195 Berlin, DE

Methyl ist ein wichtiges Intermediat in vielen Oberflächenreaktionen, über dessen Adsorptionsgeometrie jedoch nur dürftige Informationen verfügbar sind. Wir zeigen Ergebnisse experimenteller wie theoretischer Untersuchungen der Adsorptionsgeometrie von CH₃ auf Cu(111). Die Experimente basieren auf Photoelektronenbeugungs-Messungen (PhD) am C1s-Peak sowohl einer nur mit Methylionen dosierten Adsorbatlage wie auch einer Koadsorptionsphase aus der Oberflächendissoziation von Methyljodid (CH₃I).
Das koadsorbierte Jod besetzt die fcc-Lochplätze und hat nur geringe Auswirkungen auf die Adsorptionsgeometrie des Methyls, welches ebenfalls fcc-Lochplätze belegt. Dichtefunktionaltheoretische Berechnungen (DFT-GGA mit ultraweichen Pseudopotentialen unter Anwendung des CASTEP-Codes) bestätigen die Präferenz einer Adsorption in den Lochplätzen (obgleich mit leichter Tendenz zum hcp-Platz). Die Ergebnisse der Rechnungen geben einer Orientierung der C-H-Bindungen entlang der dichtgepackten Kupfer-Reihen klaren Vorzug.