Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 37: Rastersondentechniken (II)

O 37.4: Vortrag

Freitag, 15. März 2002, 12:00–12:15, H36

AFM Messungen auf NiO bei tiefen Temperaturen — •R. Hoffmann¹, M. A. Lantz², H. J. Hug¹, P. J. A. van Schendel¹, P. Kappenberger¹, S. Martin¹ und H.-J. Güntherodt¹ — ¹Institut für Physik, Universität Basel, Klingelbergstr. 82, CH-4056 Basel, Schweiz — ²IBM Research Zürich, Säumerstrasse 4, CH-8803 Rüschlikon, Schweiz

Eine (100) Oberfläche eines NiO Einkristalls wurde mit AFM im Nichtkontakt-Modus bei 8K untersucht. Dabei wurde eine konstante Oszillationsamplitude benutzt, so dass Topographie- und Dissipationsdaten gleichzeitig gemessen werden konnten. Atomare Auflösung wurde mit einer nichtmagnetischen Spitze erreicht. Um die Kräfte zwischen Spitze und Probe und den Dissipationsmechanismus besser zu verstehen, wurden Kraft-Distanz-Kurven über den Maxima und den Minima des beobachteten Kontrasts aufgenommen. Der gleiche stufenartige Kraftverlauf wurde bei der Annäherung und beim Zurückziehen gemessen und konnte durch Relaxation von Atomen erklärt werden.