Dresden 2003 – wissenschaftliches Programm

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CPP: Chemische Physik und Polymerphysik

CPP 22: POSTER C

CPP 22.11: Poster

Donnerstag, 27. März 2003, 12:00–14:00, ZEU/250

Chemische Nanostrukturen als Template zur Herstellung lateral strukturierter Polymerbürsten — •Anne Paul¹, Ursula Schmelmer², Rainer Jordan², Avi Ulman³, Michael Grunze¹, Wolfgang Eck¹ und Armin Gölzhäuser¹ — ¹Universität Heidelberg, Angewandte Physikalische Chemie — ²TU München, Lehrstuhl für Makromolekulare Stoffe — ³Polytechnic University, New York

Die Chemische Nanolithographie [1] verwendet Elektronenstrahlen zur Modifikation von mit selbstaggregierenden Monolagen (SAMs) beschichteten Festkörperoberflächen. Nitrobiphenylthiol SAMs werden unter Elektronenbeschußvernetzt und der dabei entstehende Wasserstoff reduziert die Nitroendgruppen zu Aminofunktionen. In den belichteten Bereiche entstehen somit chemische Reaktionszentren zur selektiven Immobilisierung von Molekülen. Wir zeigen, dass man diese mit einem geeigneten Radikalstarter modifizieren und als Startpunkte zur oberflächeninitiierten Polymerisationen einsetzen kann. Da Elektronenstrahllithographie über eine hohe Auflösung verfügt, lassen sich Muster aus Polymerbürsten mit lateralen Dimensionen unterhalb von 100 nm herstellen.

[1] A. Gölzhäuser et al. Adv. Mater. 13, 806, 2001 ; W. Eck et al. Adv. Mater. 12, 805, 2000