Dresden 2003 – wissenschaftliches Programm

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CPP: Chemische Physik und Polymerphysik

CPP 22: POSTER C

CPP 22.12: Poster

Donnerstag, 27. März 2003, 12:00–14:00, ZEU/250

Nanostrukturierung von selbstaggregierenden 4-Hydroxybiphenyl Monolagen auf Siliziumoberflächen mittels Elektronenstrahllithographie — •Alexander Küller, Wolfgang Geyer, Wolfgang Eck und Armin Gölzhäuser — Angewandte Physikalische Chemie, Universität Heidelberg

Selbstaggregierende Monolagen (SAMs) aus aromatischen 4-Hydroxy-1,1’-biphenylen (HBP) wurden auf wasserstoffterminierten Siliziumoberflächen hergestellt, mittels Photoelektronenspektroskopie und Rasterkraftmikroskopie charakterisiert und anschließend durch Elektronenbeschuß modifiziert. Dabei zeigte sich, daß die SAMs vernetzen und als Negativresist beim naßchemischen Ätzen von Silizium eingesetzt werden können. Durch Elektronenstrahllithographie mit HBP SAM Negativresist konnten hochaufgelöste Silizium Nanostrukturen hergestellt werden, darunter Liniengitter mit lateralen Dimensionen von ≈40 nm sowie einzelne Linien mit Breiten bis zu 10 nm und Aspektverhältnissen von bis zu drei.