Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe
DS: Dünne Schichten
DS 10: Laserverfahren zur Schichtherstellung und Oberfl
ächenmodifizierung II
Dienstag, 25. März 2003, 10:15–11:30, GER/37
10:15 | DS 10.1 | Mechanisms of stress formation in pulsed laser deposited thin metallic films — •Thorsten Scharf and Hans-Ulrich Krebs | |
10:30 | DS 10.2 | Nitrieren und Carburieren von Austenitischem Edelstahl durch reaktive Laserbestrahlung — •Peter Schaaf, Michael Kahle und Ettore Carpene | |
10:45 | DS 10.3 | H-Profilierung mit MaRPeL nach Laserhydrieren von Titan — •Marcus Schwickert, Klaus Peter Lieb, Michael Uhrmacher und Peter Schaaf | |
11:00 | DS 10.4 | Laserhydrieren von kristallinem und amorphem Silizium — •Marcus Schwickert, Ettore Carpene, Klaus Peter Lieb, Michael Uhrmacher und Peter Schaaf | |
11:15 | DS 10.5 | Laser nitriding and laser carburization of Silicon — •Ettore Carpene and Peter Schaaf | |