DS 18: Ionenstrahlverfahren I – Schichtherstellung und Schichtwachstum
Thursday, March 27, 2003, 15:15–17:00, GER/37
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15:15 |
DS 18.1 |
Mechanische Spannungen in reaktiv gesputterten Übergangsmetalloxiden — •Tim Niemeier, Tom P.L. Pedersen, Robert Drese und Matthias Wuttig
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15:30 |
DS 18.2 |
Biaxially textured ITO films with IBAD — •Karola Thiele, Carsten Herweg, Lars-Oliver Kautschor, Sibylle Sievers, Jörg Hoffmann, and Herbert C. Freyhardt
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15:45 |
DS 18.3 |
Herstellung hochwertiger Galliumnitrid-Schichten mit ionenstrahlgestützter MBE — •S. Sienz, J.W. Gerlach, T. Höche, A. Sidorenko und B. Rauschenbach
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16:00 |
DS 18.4 |
Neue Entwicklunngen bei der massenseparierten Ionenstrahldeposition dünner Schichten — •Holger Stillrich, Sören Eyhusen, Carsten Ronning, Inga Gerhards und Hans Hofsäss
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16:15 |
DS 18.5 |
Synthesis of metallic and semiconducting nanoclusters on amorphous carbon film — •Elsa THUNE, Petra REINKE, Katharina SAUTHOFF, and Michael SEIBT
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16:30 |
DS 18.6 |
Kombinatorische Ionenstrahlsynthese vergrabener II-VI Nanokristalle — •Ingo Großhans, Helmut Karl und Bernd Stritzker
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16:45 |
DS 18.7 |
Formation of ordered nanoscale dots by ion sputtering - Role of the angle of ion incidence — •Bashkim Ziberi, Frank Frost, Thomas Höche, and Bernd Rauschenbach
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