Dresden 2003 – scientific programme
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DS: Dünne Schichten
DS 20: Schichteigenschaften
DS 20.3: Talk
Thursday, March 27, 2003, 10:45–11:00, GER/38
XPS-Untersuchungen dünner PLD-PrxOy-Schichten auf Si(100) — •Markus Ratzke1, Dirk Wolfframm1, Mathias Kappa1, M.J. Montenegro2, M. Döbeli2, Thomas Lippert2 und Jürgen Reif1 — 1IHP/BTU JointLab und BTU Cottbus, LS Experimentalphysik II, Universitätsplatz 3-4, 03044 Cottbus, Deutschland — 2Paul Scherrer Institut, 5232 Villigen, Schweiz
Dünne PrxOy-Schichten wurden auf Si(100)-Oberflächen mittels Pulsed Laser Deposition (PLD) hergestellt. Die chemische Zusammensetzung der PrxOy-Schichten unterschiedlicher Dicke wurde durch X-ray Photoelektronspektroskopie (XPS) untersucht. Die PrxOy/Si-Grenzschicht besteht aus einem Silikat, die weitere Schicht aus zwei koexistierenden Pr-O-Suboxiden: Pr2O3, Pr6O11. Das Konzentrationsverhältnis beider Oxide bleibt konstant mit steigender Schichtdicke. Dies verwundert zunächst, da als Targetmaterial für die Laserverdampfung gesinterte Pr6O11-Proben verwendet wurden. Rutherford-Backscattering (RBS) Messungen am Pr6O11-Material zeigen jedoch, dass dort der Sauerstoffgehalt deutlich höher war, als stöchiometrisch erwartet. Ursache ist das starke hygroskopische Verhalten von Pr6O11. Dieser Fakt ist bei der Verwendung von Pr6O11 als Targetmaterial zu berücksichtigen.