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DS: Dünne Schichten
DS 23: Elektrische und optische Eigenschaften II
DS 23.12: Vortrag
Donnerstag, 27. März 2003, 18:00–18:15, GER/38
Ultrapräzisionsbeschichtungen mittels Magnetronsputtern und Puls Laser Deposition (PLD) für röntgenoptische Anwendungen — •Thomas Holz1, Stefan Braun2, Reiner Dietsch1,2 und Danny Weißbach2 — 1AXO DRESDEN GmbH, Siegfried-Rädel-Strasse 31, 01809 Heidenau, www.axo-dresden.de — 2Fraunhofer Institut Werkstoff- und Strahltechnik, Winterbergstrasse 28, 01277 Dresden
Moderne Anwendungen von Multischichtsystemen erfordern extreme Präzision im Schichtaufbau, was wiederum höchste Anforderungen an die jeweilige Beschichtungstechnologie stellt.
Das betrifft zum Beispiel die Beschichtung konturierter Substrate mittels PLD zur Herstellung von Parallelstrahloptiken, wie sie in der Röntgendiffraktometrie und Reflektometrie Anwendung finden. Standardabweichungen von der Solldicke kleiner 15pm über eine Fläche von 80mm x 40mm charakterisieren den gegenwärtigen Stand der Grossflächen (LA)-PLD Technologie.
Reflexionsoptiken für die EUVL (Extreme UV Lithography), der voraussichtlich nächsten Stufe der Lithographie in der Mikroelektronik, stellen noch höhere Forderungen an die Präzision. Mittels Magnetronsputtern von grossflächigen Mo/Si Multischichten auf 6 " Substraten wurden Standardabweichungen von 0.03-0.05% in der Homogenität der Schichtdicke und 0.05-0.08% für das Reflexionsvermögen nachgewiesen. Damit sind bereits jetzt die Bedingungen für einen industriellen Einsatz erfüllt.
Zur Vermarktung dieser innovativen Technologien wurde 2002 im Fraunhofer IWS ein technologieorientierter Spin-Off gegründet.