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DS: Dünne Schichten

DS 24: Poster

DS 24.37: Poster

Dienstag, 25. März 2003, 14:30–17:00, P2a

Diagnostik von h-BN Zwischenschichten durch in situ FTIR-Reflexionsspektroskopie und TEM-Untersuchungen — •Lars Ulrich¹, Michael Gross¹, Wilfried Sigle² und Achim Lunk¹ — ¹Institut für Plasmaforschung, Universität Stuttgart — ²Max-Planck-Institut für Metallforschung, Stuttgart

Bornitridschichten wurden auf TiN beschichteten Stahlsubstraten unter verschiedenen Abscheidebedingungen (variable Bias-Spannung und Beschichtungsrate) abgeschieden. Eine Gesamtschichtdicke von 1,57 µm bei einem kubischen Anteil von 1,07 µm konnte erreicht werden. Diese Schichten zeigen nach der Abscheidung in Mikroskop und REM Aufnahmen eine sehr geringe Zahl von Abplatzungen, die sich im laufe der Zeit vermehren.

Die Wachstumsbedingungen der h-BN Schicht in Abhängigkeit von der Bias-Spannung und Beschichtungsrate wurden mit in situ FTIR-Reflexionsspektroskopie in s- und p-Polarisation systematisch untersucht. Es konnten eindeutige Zusammenhänge zwischen den IR-Reflexionsspektren und den Abscheideparametern gefunden werden. Ferner konnten Abhängigkeiten zwischen den Strukturdaten aus den IR-Spektren und der Langzeitstabilität der Schichten nachgewiesen werden.

TEM-Untersuchungen zeigen, dass die Änderungen im FTIR-Reflexionsspektrum mit Änderungen der Wachstumsorientierung korrelieren.