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DS: Dünne Schichten

DS 4: Verfahren zur Schichtherstellung I

DS 4.1: Hauptvortrag

Montag, 24. März 2003, 09:30–10:15, GER/38

Einfluss magnetischer Felder auf die elektrochemische Abscheidung — •Margitta Uhlemann, Andreas Krause, Heike Schlörb, Annett Gebert und Ludwig Schultz — IFW Dresden

Die Tendenz der letzten Jahrzehnte Schichten, Schichtsysteme und Strukturen im nanoskaligen Bereich mit definierten Eigenschaften und Funktionen elektrochemisch herzustellen, erfordert neben der Optimierung bekannter Verfahren neue Techniken. Eine Überlagerung von äußeren magnetischen Feldern während der elektrochemischen Abscheidung eröffnet neue Möglichkeiten, Struktur und Eigenschaften gezielt zu beinflussen. Durch die Wirkung magnetischer Felder können die Abscheiderate erhöht, und Keimbildung- und wachstum und die Mikrostruktur sowohl von magnetischen als auch nichtmagnetischen Metallen und Legierungen verändert werden. Dieser Effekt wird vorrangig auf die Wirkung der Lorentzkraft zurückgeführt. Inwieweit andere magnetisch induzierten Kräfte einen Einfluss auf die Elektodenkinetik und Absorptions- und Diffusionsprozesse haben, ist noch ungelöst und wird kontrovers diskutiert. Anhand der Abscheidung von Cu, Co und Cu/Co Multilagen wird der Einfluss von magnetischen Feldern bis 1T hinsichtlich ihrer Wirkung auf die elektrochemischen Teilschritte des Abscheideprozesses, der Struktur und der Eigenschaften der abgeschiedenen Schichten diskutiert.