Dresden 2003 – scientific programme
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MA: Magnetismus
MA 2: Magnetische Dünne Schichten I
MA 2.7: Talk
Monday, March 24, 2003, 11:45–12:00, HSZ/04
Struktur und Transporteigenschaften weichmagnetischer, oxidischer CoFeHfO-Schichten — •Markus Esseling, Yuansu Luo und Konrad Samwer — I. Physikalisches Institut, Universität Göttingen, Bunsenstr. 9, D-37073 Göttingen
TMR-Systeme mit einer metallischen Elektrode und einer Oxidbarriere haben enorme Probleme bzgl. definierter sowie reproduzierbarer Grenzflächeneigenschaften, bedingt durch Interdiffusion und Kooxidation an der Grenzfläche. Die Verwendung von ungeordneten CoFeHfO-Schichten als weichmagnetische Elektrode bietet die Möglichkeit, diese Problematik zu reduzieren. Die CoFeHfO-Schichten wurden mittels reaktiver Sputterdeposition präpariert. XRD-Analysen zeigen eine stark ungeordnete Struktur mit einer HfO2- und einer CoFe-reichen Phase. VSM-Messungen zeigen ein zweiphasiges, magnetisches Verhalten, wobei der Anteil der zweiten Phase bei kleineren Schichtdicken abnimmt. Eine thermische Behandlung führt zunächst zu einer strukturellen Relaxation und bei höheren Temperaturen zur Bildung nanokristalliner CoFe-Ausscheidungen in einer amorphen Restmatrix. Durch die Auslagerung verbessern sich die magnetischen Eigenschaften (kleineres HC, höheres MS). Weiterhin wurden TMR-Messungen mit CoFeHfO-Schichten als weichmagnetischer Elektrode durchgeführt. Der gemessene TMR-Effekt beträgt 10% bei 200K.