Dresden 2003 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

O: Oberflächenphysik

O 6: Nanostrukturen I

O 6.3: Vortrag

Montag, 24. März 2003, 11:45–12:00, M\"UL/ELCH

Scanning Auger Messungen an Silber Inseln auf Si (111) mit 5 nm Strahldurchmesser — •J. Westermann, T. Berghaus, G. Schäfer und A. Feltz — OMICRON NanoTechnology GmbH

Das Wachstum von Ag-Inseln auf Si-Substraten wurde in der Vergangenheit unter anderem mit LEED, SEM, SAM und STM ausführlich untersucht, und wird in der Literatur detailliert beschrieben. Es stellt ein herrvorragendes Testsystem mit gut charakterisierten 3-dimensionalen Strukturen im Bereich von einigen nm bis zu einigen 10nm dar, wobei sich die Inselgrößenverteilung durch Ag-Angebot und Substrattemperatur steuern läßt. In SEM und SAM zeigt dieses System ausgeprägten topographischen bzw. Materialkontrast. Dieses System haben wir mit einem neu entwickelten Auger-Mikroskop untersucht, welches im wesentlichen aus der Kombination einer hochauflösenden Elektronenmikroskopsäule mit einen Halbkugelanalysator besteht. Die Mikroskopsäule wurde speziell für die Auger-Mikroskopie entwickelt, ist UHV-kompatibel, und bietet hohe Strahlströme (nA-Bereich) bei einer Grenzauflösung von 2nm sowie hervorragende Fokussierung bei niedrigen Strahlenergien, um so die Elektronenstreuung in der Probe zu minimieren und SAM-Auflösung am theoretischen Limit zu erzielen. Erstmalig haben wir Auger Messungen an Ag-Inseln mit nur 2keV Primärenergie und 5nm Primärfokus im UHV vorgenommen. Ziel der Untersuchung ist die Separation der strukturellen Einflüsse auf die SAM-Auflösung vom reinen Materialkontrast im Bereich von Ortsauflösungen <10 nm.