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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 2: Vakuumverfahrenstechnik

VA 2.4: Vortrag

Montag, 24. März 2003, 15:50–16:10, HSZ105

Qualitätskontrolle von Reinigungsprozessen für UHV-Anwendungen durch Elektronen induzierte Desorption — •Knut Welzel, Peter Horn und Hartmut Reich-Sprenger — GSI-Darmstadt, Plankstr. 1, 64291 Darmstadt

Die heutigen vakuumtechnischen Anwendungen erfordern immer niedrigere Druckbereiche (<10⁻¹⁰ mbar). Um diese Drücke zu erzielen, reicht eine Bestückung mit Vakuumpumpen nicht aus, es müssen auch physikalische und chemische Effekte berücksichtigt und genutzt werden. Eine wesentliche Komponente hierbei sind die Oberflächen der Vakuumbauteile. Diese müssen nicht nur eine hohe Oberflächengüte besitzen, sie müssen auch sehr sauber sein. Eine mikroskopisch saubere Oberfläche kann allerdings auch in niedrigen Druckbereichen einen hohen Verschmutzungsgrad aufweisen. Um dies zu vermeiden, wurden spezielle Reinigungsverfahren entwickelt. Bislang wird deren Güte nur indirekt über den Verschmutzungsgrad der Reinigungsflüssigkeit bestimmt. Dies ist optisch oder auch chemisch möglich. Es kann allerdings keine Aussage über die eigentliche Qualität der Reinigung getroffen werden. Im Rahmen dieses Vortrag wird ein Verfahren vorgestellt, der es ermöglicht, das Qualität der Reinigung direkt an gereinigten Komponenten zu beurteilen.