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Q: Quantenoptik

Q 20: Teilchenoptik

Q 20.8: Vortrag

Dienstag, 25. März 2003, 16:00–16:15, F107

Dissipative Lichtmasken für die Atomlithographie — •Ralf Stützle, Dirk Jürgens, Anja Habenicht, Alexander Greiner und Markus K. Oberthaler — Fachbereich Physik und Optik-Zentrum, Universität Konstanz, Fach M696, 78457 Konstanz

Wir untersuchen die Anwendbarkeit der bekannten Methode der Laserkühlung in einer blau-verstimmten stehenden Lichtwelle hoher Intensität zur atomlithographischen Erzeugung von Nanostrukturen auf Oberflächen. Charakteristische Größen wie Breite und Untergrund der Strukturen wurden mit Hilfe einer Monte-Carlo Simulation der atomaren Trajektorien für experimentell realisierbare Parameter bestimmt.

Die Ergebnisse zeigen, dass die Strukturbreite einem allgemeinen Skalierungsgesetz gehorcht. Diese neuen Lichtmasken können -im Vergleich zur konventionellen Methode der Fokussierung mit konservativen Dipolpotentialen- zu einer deutlichen Reduktion des Untergrunds der Strukturen führen und zudem sind die erzielbaren Strukturbreiten von der Geschwindigkeitsverteilung des Atomstrahls fast unabhängig. Es wird allerdings eine längere Wechselwirkungszeit und folglich mehr Laserleistung benötigt.

Gefördert durch den SFB 513 der DFG.