Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

Q: Quantenoptik

Q 21: Wellenleitung

Q 21.6: Vortrag

Dienstag, 25. März 2003, 15:15–15:30, F142

Herstellung von Subwellenlängengittern mit dem Verfahren der optischen Nahfeldlithographie — •Tina Clausnitzer, Ernst-Bernhard Kley und Andreas Tünnermann — Friedrich-Schiller Universität Jena, Institut für Angewandte Physik, Max-Wien-Platz 1, 07743 Jena

Gitterstrukturen mit Perioden im Bereich unterhalb von 1 µ m gewinnen zunehmend an Bedeutung bei der Realisierung unterschiedlichster optischer Funktionalitäten. Beispielsweise können mit ihnen Effekte wie Dispersion, Doppelbrechung und Polarisation gezielt gesteuert werden. Die Herstellung solcher Strukturen erfordert ein hochauflösendes und flexibles, jedoch auch möglichst preiswertes und schnelles Verfahren. Eine Möglichkeit ist die elektronenstrahllithographische Herstellung eines Maskengitters, welches dann anschließend mit einem geeigneten Verfahren kopiert wird. Vorgestellt wird die holographische Übertragung solcher Maskengitter mit dem Verfahren der optischen Nahfeldlithographie. Demonstriert wird vor allem die Übertragung 1-dimensionaler Gitter variabler Periode am Beispiel eines gechirpten Gitters, sowie die Übertragung unidirektionaler Gitter anhand zirkularer Gitter. Die sehr defizile Optimierung der Maskengitter erfolgte mittels rigoroser Berechnungen.