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Q: Quantenoptik

Q 47: Poster: Teilchenoptik

Q 47.4: Poster

Donnerstag, 27. März 2003, 16:30–18:30, Lichthof

Chrom-Platin-Nanolegierungen mit Atomlithographie — •Dirk Jürgens, Anja Habenicht, Alexander Greiner, Ralf Stützle und Markus K. Oberthaler — Fachbereich Physik und Optik-Zentrum, Universität Konstanz, Fach M696, 78457 Konstanz

Wir berichten über den Status des Chrom-Atomlithographieexperiments mit der Zielsetzung der Erzeugung nanostrukturierter Chrom-Platin-Legierungen. Für diese technologische Anwendung ist es notwendig, unkontaminierte Nanostrukturen mit hohem Kontrast wachsen zu können. Deshalb wurde ein UHV-System realisiert, das es erlaubt, Proben zwischen der Chrom-Lithographie-Anlage und einer MBE-Apparatur zu transferieren. Zur Erzeugung der Chrom-Nanostrukturen hohen Kontrasts wird die Methode der dissipativen Lichtmasken angewandt, bei der eine blau-verstimmte stehende Lichtwelle hoher Intensität zur Strukturierung eingesetzt wird.

Desweiteren berichten wir über experimentelle Ergebnisse zur Fokussierung in exakt-resonanten stehenden Lichtwellen.

Gefördert durch den SFB 513 der DFG.