Kiel 2004 – scientific programme

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K: Kurzzeitphysik

K 5: Poster Kurzzeitphysik

K 5.2: Poster

Wednesday, March 10, 2004, 17:45–19:45, Foyer

Die Pseudofunkenentladung - Untersuchungen zur Optimierung des Einsatzes als Strahlungsquelle im EUV-Spektralbereich — •Rainer Bischoff und Klaus Frank — Physikalisches Institut I, Universität Erlangen-Nürnberg, Erwin-Rommel-Str.1, 91058 Erlangen

Die sogenannte Lithographie der nächsten Generation benötigt intensive EUV-Strahlungsquellen bei einer Wellenlänge λ = 13.5 nm. Ein vielversprechendes Konzept einer gasentladungsbasierten EUV-Strahlungsquelle basiert auf dem Prinzip der Pseudofunkenentladung. Unter Einsatz von Xenon als Arbeitsgas erfolgt eine breitbandige Emission von EUV-Strahlung im Spektralbereich von 10 bis 18 nm, dominiert vom Xe XI 4d−5d Übergang bei der geforderten Wellenlänge.

Diskutiert wird der Einfluß der elektrischen Kenngrößen (Strom I, Stromanstiegsrate İ), des Elektrodenmaterials (Mo, Cu und CuW-Legierungen), von Arbeitsdruck und Triggerprinzip auf die Dynamik der Pseudofunkenentladung und somit auf die EUV-Erzeugung.

Diese Arbeit wird gefördert vom Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF), Projekt 13N8132