Kiel 2004 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 16: Niedertemperaturplasmen Plasmatechnologie III

P 16.4: Fachvortrag

Mittwoch, 10. März 2004, 16:25–16:45, H\"orsaal H

Massenspektrometrische Analyse reaktiver Spezies in gepulsten CF₄ / H₂-Entladungen — •Martin Geigl und Jürgen Meichsner — Institut für Physik, Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald, Domstr. 10a, D-17489 Greifswald

Entladungen in Gemischen aus Fluorkohlenstoffen und Wasserstoff führen vielfach zur Abscheidung von Schichten. Der Mechanismus der Schichtbildung ist allerdings noch weitgehend ungeklärt. Es wird vermutet[1], daß CF₂ im Volumen zu längeren Ketten reagiert, die dann zur Schichtbildung führen. CF₂ wiederum entsteht an der Wand durch Abstraktion durch freien Fluor und / oder durch Ionenbeschuß.

Mittels Schwellwert-Massenspektrometrie wurde die zeitabhängige Dichte von CF_x (x=2,3), C₂F₄, C₃F₆ und höheren Neutralen in einer gepulsten rf-Entladung (0,5 - 10 Hz) in CF₄ / H₂-Gemischen bestimmt. Ohne Zugabe von Wasserstoff sind die Dichten dieser Moleküle gering. Insbesondere sind die höheren Spezies C₃F₆ und C₄F₈ nicht nachweisbar. Bei Zugabe von 25 % H₂ bleibt die Dichte von CF₃ nahezu unverändert, während die von CF₂ und C₂F₄ um fast zwei Größenordnungen ansteigen. Die Analyse der Zeitabhängkeiten der Dichten lassen darauf schließen, daß Oberflächenprozesse nun eine große Rolle bei der Erzeugung und Vernichtung dieser Spezies spielen.

[1] D. Zhang, M. J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2661 (2000)