Kiel 2004 – wissenschaftliches Programm
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P: Plasmaphysik
P 3: Postersitzung: Niedertemperaturplasmen Plasmatechnologie I, Diagnostische Methoden I
P 3.14: Poster
Montag, 8. März 2004, 17:45–19:30, Foyer
Optogalvanische Feldstärkenmessung in Wasserstoff und Deuterium — •Daniel Esch1, Sandra Herzog1, Zhou Li2 und Volkmar Helbig1 — 1Institut für Experimentelle und Angewandte Physik, Universität Kiel — 2Fudan University, Shanghai, P. R. China
Zur Bestimmung der lokalen elektrischen Feldstärke wurden optogalvanische Spektren der Doppler-verbreiterten Linienprofile der Balmer-α Linie von Wasserstoff im Kathodenfallgebiet einer Niederdruckgasentladung vermessen. Die Feldstärke läßt sich daraus durch einen Vergleich mit theoretischen Profilen gewinnen. Um kleine aber signifikante Unterschiede zwischen den experimentellen und den für Wasserstoff gerechneten Profilen zu erklären wurden Messungen mit Deuterium durchgeführt, um zu prüfen, ob die Vernachlässigung der Hyperfein-Struktur bei der Rechnung die beobachteten Unterschiede erklären kann.