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14:30 |
DS 22.1 |
In-Situ Reflectance Anisotropy Spectra (RAS) Investigation — •Thorsten Bork and A. Bakin
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DS 22.2 |
MOVPE von AIIIBV-Verbindungen auf Ge-Substraten — •Sebastian Scholz, Helmut Herrnberger, Volker Gottschalch und Dietmar Hirsch
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DS 22.3 |
Herstellung von AIIIBV Nanoröhren aus epitaktischen Dünnschichtsystemen — •Ole Lühn, Jens Bauer, Helmut Herrnberger und Volker Gottschalch
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DS 22.4 |
Plasma modification of nano-particles and nano-fibres — •Holger Kersten, Gabi Thieme, and Volker Brueser
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DS 22.5 |
Influence of X-ray Radiation on the Chemical Composition of Plasma Deposited Fluorocarbon Films — •Vasil Yanev, Stefan Krischok, Andreas Opitz, Norbert Schwesinger, Helmut Wurmus, and Juergen A. Schaefer
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DS 22.6 |
Ionenstrahlgestützte Molekularstrahlepitaxie von wurtzitischem Galliumnitrid auf Lithiumaluminat-Substraten — •A. Hofmann, J.W. Gerlach, T. Höche und B. Rauschenbach
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DS 22.7 |
Elektrische und optische Eigenschaften von Ionenstrahl-gestützt hergestellten Galliumnitrid-Schichten — •S. Sienz, J.W. Gerlach, T. Höche, A. Sidorenko, T.G. Mayerhöfer, G. Benndorf und B. Rauschenbach
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DS 22.8 |
Herstellung und Charakterisierung laserablatierter Spin-Valve Systeme — •R. Steiner, J. Sihler, M. Krieger, A. Plettl, H.-G. Boyen und P. Ziemann
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DS 22.9 |
Wachstum von HfO2-Schichten auf Si(100) mittels Pulsed Laser Deposition — •Mathias Kappa, Dirk Wolfframm, Markus Ratzke, Simona Kouteva-Arguirova und Jürgen Reif
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DS 22.10 |
Phasenbildung in dünnen Ni/C- und Ni/Ti-Doppelschichten auf Si(001) — •Lutz Budzinski, A. Mogilatenko, O. Filonenko, G. Beddies und H.-J. Hinneberg
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DS 22.11 |
Einfluss vo C und Ti auf die Silicidbildung dünner Co-Schichten auf Si(001) — •P. Simon, F. Allenstein, H. Hortenbach, A. Mogilatenko, O. Filonenko, G. Beddies und H.-J. Hinneberg
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DS 22.12 |
Neon ion sputtering of Si(111) — •Stefan Krischok, Vasil Yanev, Annette Läffert, Henry Romanus, Ronny Wagner, Rastislav Kosiba, Gernot Ecke, Oliver Ambacher, and Juergen A. Schaefer
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DS 22.13 |
Hochdosis-Magnesium-Implantation in Silizium — •M. Häberlen, W. Y. Cheung, J. K. N. Lindner, S.P. Wong und B. Stritzker
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DS 22.14 |
Einfluss von Ionenbestrahlung auf innere und äußere Grenzflächen von nicht mischbaren, metallischen Systemen — •Jan Petersen und Stefan Mayr
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DS 22.15 |
Smoothing of Si surface by low-energy ion beam erosion — •Frank Frost, Bashkim Ziberi, and Bernd Rauschenbach
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DS 22.16 |
Non-conventional plasma sheath diagnostics for thin film deposition — •Holger Kersten, Ruben Wiese, and Marcel Haehnel
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DS 22.17 |
Reactive plasma jet etching of Si - Gas flow models and mass spectrometry — •Thomas Arnold, Sergey Grabovski, Axel Schindler, and Hans-Erich Wagner
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DS 22.18 |
Single domain growth of C60 on modified InP(001) and chemical passivation of the molecular structure — •Maxim Eremtchenko, Stefan Döring, Ruslan Temirov, and Juergen A. Schaefer
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DS 22.19 |
Growth of ITO thin films by ion beam assisted deposition — •Karola Thiele, Jörg Hoffmann, Sibylle Sievers, and Herbert C. Freyhardt
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DS 22.20 |
Interface roughness of laser deposited Fe/MgO multilayers — •Andreas Meschede, Christian Fuhse, and Hans-Ulrich Krebs
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DS 22.21 |
Gasdruckabhängige Phasenbildung beim Laser-Carburisieren von Eisen — •P. Schaaf, M. Kahle und E. Carpene
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DS 22.22 |
Magnetic properties and crystallinity of NiMn / FeNi(CoFe) bi-layer systems with different seed layers — •Stefka Groudeva-Zotova, Reiner Kaltofen, Dieter Elefant, Volker Hoffmann, Juergen Thomas, Claus Schneider, Wolfgang Michalke, and Roland Mattheis
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DS 22.23 |
Mikrostruktur orientierter magnetischer NiMnAl-Formgedächtnisschichten und ab-initio-Simulationsrechnungen — •Sigurd Thienhaus, Ralf Hassdorf, Thomas Büsgen, Jürgen Feydt, Rene Borowski, Markus Boese und Michael Moske
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DS 22.24 |
Optical and electrical properties of Teflon AF/Au nanocomposite prepared by vapor phase co - deposition — •Haile Takele, Cenk Aktas, Christian Pochstein, Ulrich Schürmann, Abhijit Biswas, Vladimir Zaporotchenko, and Franz Faupel
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DS 22.25 |
Excess noise in current-biased ultra-thin superconducting nano-structures — •Alexei Semenov, Heiko Richter, Andreas Engel, and Heinz-Wilhelm Hübers
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DS 22.26 |
Optische in-situ Untersuchungen des gaschromen Schaltens von Wolframoxid — •François Vertommen, Christian Salinga und Matthias Wuttig
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DS 22.27 |
TOF-PEEM investigation of photoelectron emission from cesium covered silver nanoparticle films — •D.A. Valdaitsev, M. Cinchetti, A. Gloskovskii, S.A. Nepijko, and G. Schönhense
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DS 22.28 |
Investigation of the local electron emission from current-carrying silver nanoparticle films by means of emission electron microscopy — •A. Gloskovskii, D.A. Valdaitsev, S.A. Nepijko, and G. Schönhense
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DS 22.29 |
Preparation and characterization of a Teflon AF/Fe-Ni-Co nanocomposite for magnetic UHF applications — •H. Greve, U. Saeed, A. Biswas, J. Kanzow, V. Zaporojtchenko, F. Faupel, M. Frommberger, and E. Quandt
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DS 22.30 |
Viskositätsmessung an dünnen Schichten des Phasenwechselmediums AgIn-Sb2Te mit einem bulge-tester — •Martin Salinga, Stefan Ziegler, Andreas Schropp, Johannes Kalb und Matthias Wuttig
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DS 22.31 |
Evolution of stress in sputtered-deposited cobalt and copper thin films — •Mirela Pletea, Winfried Brückner, Horst Wendrock, Rainer Kaltofen, and Claus M. Schneider
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DS 22.32 |
New possibilities in nanoindentation — •Maksim Karniychuk, Thomas Chudoba, Norbert Schwarzer, and Frank Richter
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DS 22.33 |
Charakterisierung von dünnen Fe100−xZrx-Schichten mittels Laserakustik — •Andreas Grob und Ulrich Herr
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DS 22.34 |
In-situ Charakterisierung der Phasenbildung während der Hochenergie-Sauerstoffionen-Implantation in Übergangsmetalle — •Y. Bohne, N. Shevchenko, F. Prokert, J. von Borany, B. Rauschenbach und W. Möller
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DS 22.35 |
Structure and interface characterisation of Exchange Bias FeMn-FeNi films — •Danica Solina, Maciej-Oskar Liedke, Ursula Tietze, Jürgen Fassbender, and Andreas Schreyer
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DS 22.36 |
TEM Investigation of the Structure and Geometry of Nanotunnels formed upon Cu Deposition on VSe2 Surfaces — •E. Spiecker, S. Hollensteiner, and W. Jäger
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DS 22.37 |
Heteroepitaxial growth of cubic boron nitride films on Single Crystalline (001) Diamond Substrates — •H. Yin, X.W. Zhang, H.-G. Boyen, and P. Ziemann
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DS 22.38 |
Adjusting Wettability, Adhesion, and Residual Stress of Hard Carbon Coatings — •Nicolas Wöhrl, Stephan Reuter, Oleksiy Filipov, and Volker Buck
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DS 22.39 |
Growth and Thermal (In-)Stability of Mulitlayers and Nanowires on Facetted Alumina Templates — •Carsten Herweg, Jörg Hoffmann, and Herbert C. Freyhardt
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DS 22.40 |
Eigenschaften magnetischer Tunnelelemente mit ECWR-Plasma oxidierten Barrieren — •Rainer Kaltofen, Ingolf Mönch, Joachim Schumann, Dieter Elefant und Hartmut Vinzelberg
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DS 22.41 |
Die Heusler-Basislegierung Co2CrAl als Elektrodenmaterial für Dünnschicht-TMR-Elemente — •Joachim Schumann, Alexander Burkov, Jochen Werner, Günter Behr, Hartmut Vinzelberg, Dieter Elefant und Rainer Kaltofen
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DS 22.42 |
MgO films for PDP applications - the measurement of the ion induced secondary electron emission and optical properties in dependence on the deposition parameters — •Ronny Kleinhempel, Hartmut Kupfer, Frank Richter, Thomas Welzel, and Thoralf Dunger
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DS 22.43 |
Multitechnique characterization of tantalum oxynitride films prepared by reactive DC magnetron sputtering. — •Selvaraj Venkataraj, Achim Breitling, and Matthias Wuttig
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DS 22.44 |
Optische Spektroskopie der Lateraldynamik von Proteinen in Biomembranen — •Johannes Renner, Emil Endreß, Lukas Worschech, Angelika Sapper, Martin Kamp, Thomas Bayerl und Alfred Forchel
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DS 22.45 |
Surface Modification of Titanium Alloys by Phospholipid Membrane Systems — •D. Pressl, G. Hlawacek, C. Teichert, F. Feyerabend, R. Willumeit, and H. Clemens
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DS 22.46 |
Real time spectroscopic in situ ellipsometry monitoring of Mo/Si multilayer growth — •E. Schubert, A. Köhler, J. W. Gerlach, Frank Frost, G. Wagner, H. Neumann, and B. Rauschenbach
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DS 22.47 |
Elektrische Untersuchungen an Si-CrSi2 Multilagen — •Chr. Drobniewski, D. Decker, G. Beddies, H.-J. Hinneberg und J. Schumann
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DS 22.48 |
Temperature-dependent surface photovoltage of polycrystalline Cu(In,Ga)Se2 from photoemission studies using synchrotron radiation — •Andreas Klein, Thomas Schulmeyer, and Ralf Hunger
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DS 22.49 |
Aluminum-induced crystallization of amorphous silicon: Al/a-Si-interface influence on seed layer formation — •Jens Schneider, Juliane Klein, Martin Muske, Stefan Gall, and Walther Fuhs
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DS 22.50 |
Development system for advanced CdTe Thin Film Solar Cells — •Jochen Fritsche, Daniel Kraft, Bettina Späth, Andreas Thißen, Andreas Klein, and Wolfram Jaegermann
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DS 22.51 |
CuInS_2 Solar Cells Deposited by Reactive Magnetron Sputtering — •Thomas Unold, Jan Hinze, and Klaus Ellmer
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DS 22.52 |
Epitaxial growth and characterization of Cu0.5In0.5Se (Te) films grown on GaAs by pulsed laser deposition. — •Liudmila Roussak, Gerald Wagner, and Klaus Bente
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DS 22.53 |
Influence of the substrate preparation on the low-temperature epitaxy of Si by electron-cyclotron resonance chemical vapor deposition — •Patrick Clemens, Björn Rau, Ina Sieber, Stefan Gall, and Walther Fuhs
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DS 22.54 |
Majority-carrier properties of low-temperature epitaxial Si — •S. Brehme, U. Knipper, B. Rau, and W. Fuhs
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DS 22.55 |
Photospannungsuntersuchungen an In(OH)xSy - und PbS - Dünnschichten und -systemen — •T. Guminskaya, R. Bayon, G. Urban, N. Grigorieva und Th. Dittrich
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DS 22.56 |
On the role of buffer layers in solar cells with extremely thin absorbers — •A. Belaidi, R. Bayon, Th. Dittrich, H. Muffler, C.-H. Fischer, and M.C. Lux-Steiner
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DS 22.57 |
Polykristalline WSx- und MoSx -Schichten als Absorbermaterial in Dünnschichtsolarzellen — •Stefan Seeger, Volkmar Weiß, Helmut Tributsch, Thomas Dittrich, Tanja Guminskaya, Rainald Mientus und Klaus Ellmer
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DS 22.58 |
Modulation Doping as a Means to Overcome the Mobility Limitation of Zinc Oxide Transparent Electrodes? — •Goetz Vollweiler und Klaus Ellmer
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DS 22.59 |
In-situ RHEED Untersuchungen an oxidischen HTSL-Schichtsystemen — •Matthias Karger und Meinhard Schilling
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DS 22.60 |
Elektrische und strukturelle Eigenschaften dünner gesputterter Goldschichten auf Floatglassubstraten — •Christian Markert, Dirk Lützenkirchen-Hecht und Ronald Frahm
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DS 22.61 |
A new indentation concept for porous materials — •René Puschmann, Norbert Schwarzer, and Frank Richter
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DS 22.62 |
Cu-induced nanostructures and thin layer phases on VSe2 crystals — •S. Hollensteiner, E. Spiecker, and W. Jäger
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