Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

DS: Dünne Schichten

DS 22: Postersitzung

DS 22.59: Poster

Dienstag, 9. März 2004, 14:30–17:00, Poster B

In-situ RHEED Untersuchungen an oxidischen HTSL-Schichtsystemen — •Matthias Karger und Meinhard Schilling — TU Braunschweig Institut für Elektrische Messtechnik und Grundlagen der Elektrotechnik, Hans Sommer Straße 66, 38106 Braunschweig

In-situ RHEED wird zunehmend für die Charakterisierung von Wachstumsprozessen von oxidischen Schichten verwendet, die mittels Laser-Deposition bei Sauerstoff-Partialdrücken bis zu 100 Pa hergestellt werden. Wir präsentieren u.a. Ergebnisse zum Wachstum von Schichten aus YBa₂Cu₃O₇, wie sie für Josephson-Kontakte in Rampengeometrie Verwendung finden. Von besonderem Interesse ist dabei die Epitaxie auf verkippten bzw. strukturierten Substraten. Dazu werden Schichten verglichen, die entweder auf Oberflächen wachsen, die zu einem Großteil aus Rampen mit einem Winkel von etwa 10^∘ bestehen oder auf Substraten, die einen Fehlschnitt um den gleichen Betrag aufweisen. RHEED Oszillationen zeigen dabei, dass auch auf solchen Oberflächen ‚layer-by-layer‘-Wachstum beobachtet werden kann. Die mit RHEED bestimmten Werte für die Gitterkonstanten werden mit aus Röntgenstrukturanlysen gewonnenen Daten verglichen, und AFM Messungen lassen einen Vergleich zwischen Morphologie und RHEED-Bildern zu.