 |
Mon, 09:30–11:45 |
HS 31 |
DS 1: Ionenimplantation I |
|
|
|
Mon, 11:45–12:30 |
HS 31 |
DS 2: Ionenimplantation II |
|
|
|
Mon, 14:30–16:00 |
HS 31 |
DS 3: Ionenimplantation III |
|
|
|
Mon, 16:00–17:00 |
HS 31 |
DS 4: Prozesscharakterisierung |
|
|
|
Mon, 09:30–10:15 |
HS 32 |
DS 5: Spezielle Schichten I |
|
|
|
Mon, 10:15–11:30 |
HS 32 |
DS 6: Spezielle Schichten II |
|
|
|
Mon, 11:30–12:30 |
HS 32 |
DS 7: Spezielle Schichten III |
|
|
|
Mon, 14:30–15:15 |
HS 32 |
DS 8: Dünnschichtanalytik I |
|
|
|
Mon, 15:15–17:15 |
HS 32 |
DS 9: Dünnschichtanalytik II |
|
|
|
Tue, 09:30–12:50 |
HS 32 |
DS 10: FV-internes Symposium „Analytische Elektronenmikroskopie an dünnen Schichten“ |
|
|
|
Wed, 14:30–15:15 |
HS 31 |
DS 11: Schichteigenschaften I |
|
|
|
Wed, 15:15–16:45 |
HS 31 |
DS 12: Schichteigenschaften II |
|
|
|
Wed, 16:45–18:00 |
HS 31 |
DS 13: Schichteigenschaften III |
|
|
|
Wed, 14:30–16:15 |
HS 32 |
DS 14: Schichtwachstum |
|
|
|
Wed, 16:15–18:00 |
HS 32 |
DS 15: Oberfl
ächenmodifizierung |
|
|
|
Thu, 14:30–15:15 |
HS 31 |
DS 16: Schichtherstellung I |
|
|
|
Thu, 15:15–16:45 |
HS 31 |
DS 17: Schichtherstellung II |
|
|
|
Thu, 16:45–18:15 |
HS 31 |
DS 18: Schichtherstellung III |
|
|
|
Thu, 09:30–12:50 |
HS 32 |
DS 19: FV-internes Symposium „Dünne Schichten für die Photovoltaik I“ |
|
|
|
Thu, 14:30–15:45 |
HS 32 |
DS 20: Dünne Schichten für die Photovoltaik II |
|
|
|
Thu, 15:45–17:00 |
HS 32 |
DS 21: Dünne Schichten für die Photovoltaik III |
|
|
|
Tue, 14:30–17:00 |
Poster B |
DS 22: Postersitzung |
|
|
