Regensburg 2004 – scientific programme

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HL: Halbleiterphysik

HL 15: Photonische Kristalle III

HL 15.8: Talk

Tuesday, March 9, 2004, 12:00–12:15, H17

Herstellung und Charakterisierung zweidimensional-periodischer Photonischer Kristalle mittels holographischer Lithographie — •M. Hermatschweiler^1,2, D. C. Meisel^3,2, M. Diem^4,2, K. Busch^4,2,5 und M. Wegener^1,3,2 — ¹Inst. f. Angewandte Physik, Universität Karlsruhe (TH), 76128 Karlsruhe — ²DFG-Center for Functional Nanostructures — ³Inst. f. Nanotechnologie, Forschungszentrum Karlsruhe in der Helmholtz-Gemeinschaft, 76021 Karlsruhe — ⁴Inst. f. Theorie der Kondensierten Materie, Universität Karlsruhe (TH), 76128 Karlsruhe, Germany — ⁵School of Optics/CREOL and Dep. of Physics, Univ. of Central Florida, Orlando, USA

Die holographische Lithographie mit drei Strahlen stellt eine sehr flexible Methode dar, um großflächig zweidimensional-periodische Photolackstrukturen herzustellen. Dazu wird eine ca. 25 µm dicke SU-8-Photolackschicht mit einem Interferenzmuster bei 355 nm Wellenlänge belichtet und anschließend entwickelt. Verschiedene Strukturen bestehend aus unterschiedlich geformten Luftsäulen in hexagonaler und graphitähnlicher Anordnung mit einer Gitterkonstanten von ca. 620 nm wurden hergestellt. In ΓM-Richtung wurden Stoppbänder im sichtbaren Spektralbereich und im nahen Infrarot als Transmissionsminima und entsprechende Reflexionsmaxima polarisationsabhängig mit einem FTIR nachgewiesen. Die Transmission wurde durch ca. 200 µm ausgedehnte Proben gemessen. Trotz der geringen Brechzahl (n=1,6) ergaben sich Reflexionsmaxima von bis zu 70 %. Die optischen Messungen sind in guter Übereinstimmung mit Transmissions- und Reflexionsrechnungen sowie Bandstrukturrechnungen.