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MA: Magnetismus

MA 10: Exchange Bias

MA 10.6: Vortrag

Dienstag, 9. März 2004, 11:30–11:45, H10

Elementspezifische Untersuchungen an austauschverschobenen Bilayern mit NiO als Antiferromagnet vor und nach Beschuss mit 10 keV He-Ionen mit resonanter Röntgenreflektometrie — •A. Ehlers¹, D. Engel¹, H. Schmoranzer¹, A. Ehresmann¹, H. C. Mertins², D. Abramsohn² und W. Gudat² — ¹Technische Universität Kaiserslautern, Fachbereich Physik, Erwin-Schrödinger-Str., D-67663 Kaiserslautern — ²BESSY GmbH, Albert-Einstein-Str.15, D-14195 Berlin

Austauschgekoppelte Zweilagenschichtsysteme mit NiO als Antiferromagnet wurden nach ihrer Herstellung mit 10 keV He-Ionen in einem äußeren Magnetfeld beschossen. Es ist möglich durch diesen Beschuss Stärke und Richtung des Exchange Bias Feldes H_eb gezielt zu verändern. Eine der Ursachen dieser Veränderungen ist die Defekterzeugung in der Nähe der Grenzfläche zwischen Ferromagnet (F) und Antiferromagnet (AF). Untersuchungen mit Hilfe resonanter Reflexion von weicher Röntgenstrahlung an diesen Schichtsystemen wurden mit dem BESSY-Polarimeter am UE56/1-PGM durchgeführt. Mit dieser Methode wurde elementspezifisch an den L-Kanten der in den Schichtsystemen vorhandenen Elemente u.a. Θ-2Θ Scans durchgeführt, um Informationen über die Veränderung der Rauhigkeit an der F/AF- Grenzfläche zu gewinnen.