Regensburg 2004 – scientific programme
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MA: Magnetismus
MA 13: Poster:Schichten(1-23),Spinabh.Trsp(24-41),Exch.Bias(42-56),Spindyn.(57-67),Mikromag.(68-76),Partikel(77-90),Spinelektr.(91-97),Elektr.Theo.(98-99),Mikromag+PhasÜ+Aniso.(100-105),Magn.Mat.(106-118),Messmethod.(119-121),Obflm.+Abbverf.(122-123)
MA 13.49: Poster
Tuesday, March 9, 2004, 15:00–19:00, Bereich A
Gezielte Richtungsänderung der unidirektionalen Anisotropie in austauschverschobenen Schichtsystemen durch keV-Ionenbeschuss — •D. Engel, D. Junk, A. Ehlers, H. Schmoranzer und A. Ehresmann — Technische Universität Kaiserslautern, Fachbereich Physik, Erwin-Schrödinger-Str., D-67663 Kaiserslautern
Durch He-Ionenbeschuss von austauschverschobenen Schichtsystemen in einem äußeren Magnetfeld kann man die Stärke und Richtung des Austauschverschiebungsfeldes Heb nachträglich verändern. Indem man das äußere Magnetfeld beim Beschuss gegenüber der ursprünglichen unidirektionalen Anisotropierichtung des Schichtsystems dreht, ist es möglich eine neue Anistropierichtung durch den Ionenbeschuss zu fixieren. Diese Modifikationen sind lateral begrenzbar und bieten vielfältige Anwendungsmöglichkeiten für magnetische Sensoren und Speicherelemente. Es werden erste Ergebnisse für Schichtsystme mit oxidischen und metallischen Antiferromagneten, die mit 10 keV He-Ionen beschossen wurden, vorgestellt.