Regensburg 2004 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 14: Postersitzung (Adsorption an Oberflächen, Epitaxie und Wachstum, Organische Dünnschichten, Oxide und Isolatoren, Phasenübergänge, Rastersondentechniken, Struktur und Dynamik reiner Oberflächen)

O 14.65: Poster

Montag, 8. März 2004, 18:00–21:00, Bereich C

Untersuchung von Punkt- und Liniendefekten auf der NiO(001)-Spaltfläche mittels Rasterkraftmikroskopie — •Nico Plock, U. Kaiser, A. Schwarz und R. Wiesendanger — IAP, Mikrostrukturzentrum, Universität Hamburg

Die Übergangsmetalloxide, zu denen auch NiO gehört, waren vor allem aufgrund ihrer katalytischen Eigenschaften in der Vergangenheit bereits Gegenstand zahlreicher Untersuchungen. NiO zeigt bei defektfreien Oberflächen kaum reaktives Verhalten, während z.B. durch Punkt- und Liniendefekte die Reaktivität stark gesteigert wird. Wir haben mittels eines Rasterkraftmikroskops (RKM) im Ultrahochvakuum Untersuchungen an in situ-präparierten (001)-Oberflächen von NiO durchgeführt. Dazu wurden verschiedene Proben nach dem in situ-Spalten mit dem RKM abgebildet und anschließend für acht bis zwölf Stunden auf Temperaturen zwischen 200^∘C und 720^∘C geheizt. Anschließend wurden die Proben mit LEED und Augerspektroskopie, sowie dem RKM untersucht. Neben Ladungen und Adsorbaten auf der Oberfläche wurden sowohl Fehlstellen als auch Linien- und Punktdefekte gefunden.