Berlin 2005 – scientific programme
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DS: Dünne Schichten
DS 13: Ionenstrahlverfahren II
Monday, March 7, 2005, 14:15–15:15, TU HS107
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14:15 | DS 13.1 | Topography of simultaneously sputtered and rotated solid surfaces: A numerical study — •Emmanuel O. Yewande, Reiner Kree, and Alexander K. Hartmann |
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14:30 | DS 13.2 | Ion induced pattern formation on Ge and Si surfaces — •Bashkim Ziberi, Frank Frost, and Bernd Rauschenbach |
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14:45 | DS 13.3 | Smoothening, mixing and sputtering of semimetal- and halogenide-coatings by swift heavy ion irradiation — •Hartmut Paulus, Wolfgang Bolse, and Bouschaib Bahouchi |
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15:00 | DS 13.4 | Einfluss der Substrattemperatur und der Substratvorstrukturierung auf das 3D-Nanostrukturwachstum bei der Ionenstrahl-Sputterabscheidung mit GLAD — •John Fahlteich, Eva Schubert, Bernd Rauschenbach und Thomas Höche |