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DS: Dünne Schichten

DS 16: Dünnschichtanalytik III

DS 16.1: Vortrag

Montag, 7. März 2005, 10:45–11:00, TU HS110

Oberflächenstrukturen dünner aufgedampfter Siliziumdioxidschichten aus AFM und Streulichtmessungen — •G. Seewald, Ch. Scharfenorth, F. Elsholz und H.J. Eichler — Optisches Institut der TU-Berlin, Straße des 17.Juni 135, 10623 Berlin

Dünnschichtoptiken für Hochleistungslaser und meßtechnische Anwendungen erfordern den Einsatz von glatten und streuarmen Oberflächen. An Substraten und dünnen Siliziumdioxidschichten wurden Oberflächenrauhigkeiten im Nanometer-Bereich auf Flächen von 0,7 bis 80 µm Kantenlänge mittels der Atomic Force Microscopy (AFM) gemessen. Größere Flächen wurden durch ortsaufgelöste Streulichtmessungen charakterisiert, aus denen ebenfalls Oberflächen-Rauhigkeiten bestimmt werden können. Die Ergebnisse von AFM und Streulichtmessungen werden vergleichend diskutiert.

gefördert durch BMBF (FKz.:03C0330A)