DS 16: Dünnschichtanalytik III
Montag, 7. März 2005, 10:45–13:00, TU HS110
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10:45 |
DS 16.1 |
Oberflächenstrukturen dünner aufgedampfter Siliziumdioxidschichten aus AFM und Streulichtmessungen — •G. Seewald, Ch. Scharfenorth, F. Elsholz und H.J. Eichler
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11:00 |
DS 16.2 |
Ultrathin metal film physical properties determined by in situ spectroscopic ellipsometry — •Thomas Oates, Luke Ryves, Mykola Vinnichenko, Marcela Bilek, and David McKenzie
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11:15 |
DS 16.3 |
Role of Y2O3 on borocarbide thin films grown on MgO (100) substrate — •K. Subba rao, R. Tamm, S.C. Wimbush, G.H. Cao, C.-G. Oertel, W. Skrotzki, and B. Holzapfel
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11:30 |
DS 16.4 |
Untersuchung der Anreicherung von Germanium in heliumimplantierten SiGe/Si-Heterostrukturen durch Oxidation — •N Hueging, M Luysberg, D Buca, B Holländer, S Mantl, R Loo, M Caymax und K Urban
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11:45 |
DS 16.5 |
Comparison of X-ray reflectometry and fundamental parameter based X-ray fluorescence analysis for the precise investigation of thin films on silicon — •Michael Kolbe, Burkhard Beckhoff, Michael Krumrey, and Gerhard Ulm
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12:00 |
DS 16.6 |
Charakterisierung thermomechanischer Transformationen von Formgedächtnisschichten mit Flächendetektor-Röntgendiffraktometrie — •J. Feydt, R. Hassdorf, S. Thienhaus und M. Moske
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12:15 |
DS 16.7 |
C60 als Matrix zur Herstellung von Metallclustern — •Helge Kroeger und Petra Reinke
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12:30 |
DS 16.8 |
Textur von ITO-Schichten — •Dieter Mergel, Zhaohui Qiao und Karola Thiele
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12:45 |
DS 16.9 |
Preparation of aluminosilicate crystalline coatings from sol-gel derived alumina films deposited on various silicon/silica substrates — •Emanuel Gutmann, Dirk C. Meyer, Alexander A. Levin, and Peter Paufler
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