Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

DS: Dünne Schichten

DS 17: Harte Schichten und mechanische Eigenschaften

DS 17.2: Vortrag

Montag, 7. März 2005, 14:15–14:30, TU HS110

Abscheidung von spannungsarmen nanokristallinen Diamantschichten mit Hilfe einer MW-CVD Plasmaquelle — •Nicolas Wöhrl, Alexei Poukhovoi und Volker Buck — AG Dünschichttechnologie, Universität Duisburg-Essen, Universitätsstr. 3-5, 45141 Essen

Nanokristalliner Diamant bietet durch seine speziellen mechanischen und elektrischen Eigenschaften, welche die herausragenden Eigenschaften der seit Jahren technisch eingesetzten mikrokristallinen Variante um einige interessante Aspekte ergänzt, neue Möglichkeiten der technischen Anwendung. Es werden die Ergebnisse zur Abscheidung Nanokristalliner Diamantschichten mit Hilfe einer MW-CVD Plasmaquelle auf Siliziumsubstraten vorgestellt, für die der Abscheideprozess optimiert wurde. Hierbei wurden insbesondere Wachstumsrate und Schichtqualität in Abhängigkeit von Prozessparametern wie Gaszusammensetzung, Druck und Gasfluss optimiert. Die Schichtqualität der Nanokristallinen Diamantschichten wurde mit Hilfe der Ramanspektroskopie ermittelt. Der Einfluss auf den für den technischen Einsatz sehr kritischen Aspekt der mechanischen Spannungen in den Schichten wurde ebenfalls untersucht. Dabei kam eine ex-situ Apparatur zur Bestimmung des Krümmungsradius der Proben zum Einsatz. Es zeigte sich, dass sich, bei geeigneter Wahl der Prozessparameter spannungsfreie Schichten abscheiden lassen.