Berlin 2005 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 19: Schichtabscheidung

DS 19.1: Invited Talk

Tuesday, March 8, 2005, 13:45–14:30, TU HS107

In-situ-Charakterisierung der Schichtabscheidung mit gepulsten Magnetrons — •Thomas Welzel — TU Chemnitz, Institut für Physik, 09107 Chemnitz, Germany

In den letzten Jahren hat die Schichtabscheidung mit gepulsten Magnetronentladungen im kHz-Bereich stark an Bedeutung gewonnen. Durch den Pulsbetrieb ist ein stabiler Betrieb der Entladung auch in reaktiver Umgebung möglich, da isolierende Schichten in der Pulspause entladen werden. So können Schichten verbesserter Qualität abgeschieden werden, wobei noch nicht geklärt ist, was außer der Arc-Unterdrückung diese Verbesserung bewirkt. Um diese Mechanismen untersuchen zu können, werden In-situ-Diagnostiken benötigt, die die gepulste Entladung zeitaufgelöst messen. Zwei Möglichkeiten sind dabei Langmuir-Sonden und die optische Emissionsspektroskopie (OES). Deren zeitaufgelöste und statische Anwendung auf die Magnetronentladungen der MgO- und TiO₂-Abscheidung wird vorgestellt. Es wird gezeigt, dass die Plasmaparameter zwar durch die Targetspannung bestimmt sind, jedoch kein einfaches Abbild dieser darstellen, sondern sich komplexe, charakteristische Strukturen im Zeitverhalten bilden, die eine Prozessbeschreibung nur aus gemittelten Größen unmöglich machen.