Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 23: Postersitzung I

DS 23.11: Poster

Freitag, 4. März 2005, 16:00–18:30, Poster TU B

In-situ Messung von mechanischen Spannungen während des reaktiven DC-Magnetron Sputterns — •Robert Drese und Matthias Wuttig — 1. Physikalisches Institut A, RWTH-Aachen, 52056 Aachen

Beim reaktiven DC-Magnetron Sputtern treten oftmals hohe mechanische Spannungen auf, welche die Schichteigenschaften beeinflussen. Der genaue Mechanismus der Bildung dieser hohen Spannungen ist allerdings noch nicht im Detail verstanden, weshalb eine in-situ Apparatur zur Spannungsmessung während der Schichtdeposition konstruiert wurde.

Diese Anlage, die mittels der Methode der Substratkrümmung arbeitet, wird ebenso vorgestellt wie Ergebnisse der Spannungsmessungen an verschiedenen Metallen und Oxiden, darunter Zr/ZrOx, Zn/ZnOx, TiOx und Nb/NbOx, bei denen Spannungen sehr unterschiedlicher Größe beobachtet werden. Ein Modell der Erklärung sowohl dieser Unterschiede als auch der Evolution der mechanischen Spannungen wird vorgestellt.