Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 23: Postersitzung I

DS 23.20: Poster

Freitag, 4. März 2005, 16:00–18:30, Poster TU B

Herstellung und Eigenschaften Titanoxid- und -nitridhaltiger a-C:H-Schichten mittels PIII&D — •Götz Thorwarth^1,2, Claus Hammerl², Marcus Kuhn², Walter Assmann³ und Bernd Stritzker¹ — ¹Lehrstuhl für Experimentalphysik IV, Universität Augsburg, 86135 Augsburg — ²AxynTeC Dünnschichttechnik GmbH, Am Mittleren Moos 48, 86167 Augsburg — ³Sektion Physik der LMU München, Am Coulombwall 6, 85748 Garching

Die vorteilhaften Eigenschaften amorpher Kohlenstoffschichten lassen sich durch Modifikation der Schichtzusammensetzung mit Fremdelementen weiter verbessern und speziellen Anforderungen anpassen. Mittels der Plasmaimmersions-Ionenimplantation und -Deposition (PIII&D) wurden zu diesem Zweck a-C:H:Ti:O- und a-C:H:Ti:N-Schichten abgeschieden und charakterisiert. Der gewählte Prozeß erlaubte dabei weite Variationen der Ti/C- und Ti/O- bzw. Ti/N-Verhältnisse der Schichten. Die Ergebnisse einer Reihe struktureller (TEM, XRD, Raman-Spektroskopie) und anwendungsbezogener Untersuchungsmethoden (Nanohärte, Leitfähigkeit, Biokompatibilität) werden vorgestellt und diskutiert.