Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 23: Postersitzung I

DS 23.24: Poster

Freitag, 4. März 2005, 16:00–18:30, Poster TU B

Deposition dünner Titannitrid-Schichten mit hyperthermischen Teilchenstrahlen — •Andreas Wolfsteller, Jürgen W. Gerlach und Bernd Rauschenbach — Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM), Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig

Eine höhere Flexibilität bei der konventionellen ionenstrahlgestützten Deposition von Metallnitrid-Schichten kann erreicht werden, indem die Metallkomponente nicht durch Verdampfen mit lediglich thermischen Energien angeliefert wird, sondern mit hyperthermischen. In dem vorliegenden Beitrag werden Ergebnisse zur Abscheidung von unter Verwendung zweier hyperthermischer Teilchenstrahlen hergestellten TiN-Schichten vorgestellt. Hyperthermische Stickstoff- bzw. Titanionen wurden mit einer Hohlanodenquelle bzw. mit einem DC-Vakuumbogenverdampfer erzeugt. Die TiN-Schichten wurden simultan bei konstanter Substrattemperatur von 750 ^∘C auf Saphir(0001), MgO(100) und Quarzglassubstraten abgeschieden, um die Einflüsse der Ionenstrahlparameter auf das Schichtwachstum von denen des Substrats zu separieren. Als in situ-Messmethode wurde RHEED eingesetzt. Die chemische Zusammensetzung der Schichten wurde mit ERDA, sowie mit TOF-SIMS bestimmt. Die Untersuchung der kristallographischen Struktur und Textur, sowie der kristallinen Qualität erfolgte mit HR-XRD. RHEED und XRD-Polfigurmessungen zeigen, daß die Schichten im Falle von Saphir- bzw. von MgO-Substraten epitaktisch sind; im Falle von Quarzglas sind die Schichten polykristallin und weisen eine Vorzugsorientierung auf. Der Einfluss der Ionenstrahlparameter und der Substratsorte auf die kristalline Qualität der Schichten wird diskutiert.