Berlin 2005 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 23: Postersitzung I

DS 23.8: Poster

Friday, March 4, 2005, 16:00–18:30, Poster TU B

Untersuchung des Abscheideprozesses von Nanokristallinen Diamantschichten über Optische Emissionsspektroskopie und Massenspektroskopie — •Nicolas Wöhrl, Alexei Poukhovoi und Volker Buck — AG Dünnschichttechnologie, Universität Duisburg-Essen, Universitätsstr. 3-5, 45141 Essen

Mit Hilfe einer MW-CVD Plasmaquelle wurden nanokristalline Diamantschichten abgeschieden. Dabei wurde die Zusammensetzung des Plasmas bei Variation der Prozessparameter mittels Optischer Emissionsspektroskopie und Massenspektroskopie untersucht. C₂-Dimere gelten als mögliche Precourser für das Wachstum von Nanokristallinen Diamantschichten [1]. Mit Hilfe der Optischen Emissionsspektroskopie wurde daher insbesondere der Anteil an C₂-Dimeren im Plasma in Abhängigkeit von Prozessparametern wie Druck, Gaszusammensetzung und Gasfluss bestimmt. Es konnte gezeigt werden, dass die Wachstumsrate der Nanokristallinen Diamantschicht mit dem Anteil an C₂-Dimeren im Plasma korreliert. Neben der Optischen Emissionsspektroskopie, die detaillierte Informationen über die Konzentration der C₂ Radikale liefert, wurden massenspektroskopische Messungen zur Bestimmung der Plasmazusammensetzung während der Beschichtung durchgeführt.

[1] D. M. Gruen, Annu. Rev. Mater. Sci. 29 (1999) 211-259