Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm
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HL: Halbleiterphysik
HL 49: Photonische Kristalle II
HL 49.4: Vortrag
Dienstag, 8. März 2005, 11:30–11:45, TU P164
Zur Form holographisch hergestellter Photolackstrukturen — •Daniel C. Meisel1,2,3 und Martin Wegener1,2,3 — 1Inst. f. Nanotechnologie, Forschungszentrum Karlsruhe in der Helmholtz-Gemeinschaft, D-76021 Karlsruhe — 2Inst. f. Angewandte Physik, Univ. Karlsruhe (TH), — 3DFG-Centrum für Funktionelle Nanostrukturen
Holographisch hergestellte poröse Photolackstrukturen können als Template für Photonische Kristalle dienen [1,2]. Die Form der Struktur wird üblicherweise als Isointensitätsfläche des Interferenzfeldes beschrieben [1,2,3]. Eine genauere Untersuchung ergab jedoch, dass insbesondere die Form des Motifs der Kristallstruktur trotz gleicher Belichtung stark davon abhängt, wie die Prozessierung des Photolackes durchgeführt wird. Die Translationssymmetrie hingegen ergibt sich zwingend aus dem Interferenzmuster. Es werden zu dieser Frage experimentelle und theoretische Resultate vorgestellt und Konsequenzen daraus diskutiert.
[1] M. Campbell, D. N. Sharp, M. T. Harrison, R. G. Denning und A. J. Turberfield, Nature 404, 54 (2000)
[2] Yu. V. Miklyaev, D. C. Meisel, A. Blanco, G. von Freymann, K. Busch, W. Koch, C. Enkrich, M. Deubel und M. Wegener, Appl. Phys. Lett. 82, 1284 (2003)
[3] D. C. Meisel, M. Wegener und K. Busch, Phys. Rev. B 70, 165104 (2004)