Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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MA: Magnetismus

MA 2: Magnetische dünne Schichten I

MA 2.4: Vortrag

Freitag, 4. März 2005, 11:15–11:30, TU H1012

Rastertunnelmikroskopische Charakterisierung von ionenstrahlgesputtertem Fe(001) auf GaAs(001) — •Alexandra Schindler, Thorsten Damm, Daniel Bürgler und Claus M. Schneider — Institut für Festkörperforschung, Elektronische Eigenschaften, Forschungszentrum Jülich

Die Fe-Schichten werden mittels Ionenstrahlsputtern unter UHV-Bedingungen epitaktisch gewachsen. Die Untersuchung von Wachstums- und Strukturbildungsvorgängen wird zunächst an Fe auf GaAs-Substraten durchgeführt. Die Schichten werden in Abhängigkeit von der Substratpräparation, der Substrattemperatur und der Fe-Schichtdicke hergestellt. Die Morphologieuntersuchungen werden mit einem Rastertunnelmikroskop durchgeführt. Die Messungen werden in Hinblick auf die Höhenvariation des Eisens und dem Unterschied der RMS-Rauhigkeit bei unterschiedlichen Herstellungsbedingungen verglichen. Dabei ist zu erkennen, dass das Vorsputtern (Reinigen) des GaAs die Aufrauung der Fe-Schicht zur Folge hat. Bei erhöhter Substrattemperatur (300^∘C) wächst der Fe-Film zunehmend in Form von gleichmäßigen sphärischen Clustern. Die RMS-Rauhigkeit beträgt 5Å (3ML), ist damit etwas niedriger als bei Raumtemperatur hergestelltem Fe (7Å, 5ML). Der Einfluss der Morphologie auf die magnetischen Eigenschaften wird betrachtet und die Untersuchungen werden auf Schichtsysteme wie z.B. Fe/Si/Fe, Fe/MgO/Fe ausgeweitet.