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O: Oberflächenphysik

O 15: Postersitzung (Adsorption an Oberfl
ächen, Epitaxie und Wachstum, Organische Dünnschichten, Oxide und Isolatoren, Rastersondentechniken, Zeitaufgelöste Spektroskopie, Methoden)

O 15.29: Poster

Freitag, 4. März 2005, 17:00–20:00, Poster TU D

Schichtwachstum, Grenzflächenreaktion und Elektronische Struktur von ultradünnen 3d-Übergangsmetalloxid/Metall-Schichtsystemen — •M. Nagel, L. Zhang und T. Chassé — Institut für Physikalische und Theoretische Chemie, Universität Tübingen, Auf der Morgenstelle 8, D-72076 Tübingen

Ultradünne Schichten von Mn auf NiO(100) und Ni auf MnO(100)-Einkristalloberflächen (nominelle Schichtdicken <10nm) wurden in-situ mittels Photoemissionsspektroskopie schichtdickenabhängig charakterisiert. Die Auswertung der O1s-, Mn2p- und Ni2p-Rumpfelektronenspektren ergab Hinweise auf ein Inselwachstum und die partielle Oxidation des Metalls an der Grenzfläche bei den gewählten Präparationsbedingungen. Außerdem wurden ultradünne, pseudomorphe MnO- und NiO-Schichten auf Ag(100)-Einkristalloberflächen präpariert (analog zu [1,2]) und mit XPS sowie LEED in-situ analysiert. Bei der Präparation der MnO-Schichten wurden ergänzend Mn3s-Spektren zur Überprüfung des Oxidationszustandes herangezogen. Nach Aufdampfen einer Deckschicht aus Sb wurden die Proben ex-situ mit XES und XAS in Fluoreszenzdetektion charakterisiert. Die O K_α, Mn L_2,3 und Ni L_2,3 Röntgenabsorptions- und Fluoreszenzspektren der Schichtsysteme sowie entsprechender Volumen-Referenzproben wurden ausgewertet.

Im direkten Vergleich der ultradünnen Schichten zu den Referenzproben wurden Veränderungen in der elektronischen Struktur durch die verringerte Dimensionalität bzw. das pseudomorphe Wachstum beobachtet.

[1] F. Müller et al., Surf. Sci. 520, 158 (2002)

[2] S.A. Krasnikov et al., Thin Solid Films 428, 201 (2003)