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O: Oberflächenphysik

O 36: Postersitzung (Elektronische Struktur, Grenzfl
äche fest-flüssig, Halbleiteroberfl
ächen und -grenzfl
ächen, Nanostrukturen, Oberfl
ächenreaktionen, Teilchen und Cluster, Struktur und Dynamik reiner Oberfl
ächen)

O 36.39: Poster

Montag, 7. März 2005, 15:00–18:00, Poster TU F

Kombination mizellarer und lithographischer Techniken – ein unkonventioneller Strukturierungsansatz — •Oliver Dubbers¹, A. Ethirajan¹, C. Pfahler¹, H.-G. Boyen¹, A. Plettl¹, P. Ziemann¹, M. Ozawa² und P. Walter² — ¹Abt. Festkörperphysik, Universität Ulm, D-89069 Ulm — ²Abt. Elektronenmikroskopie, Universität Ulm, D-89069 Ulm

In Toluol gelöste Diblockcopolymere aus Polystyrol und Poly-2-Vinylpyridin (PS-b-P2VP) formen inverse Mizellen mit einem P2VP Kern und einer PS Korona. Diese können mit Metallsalzen, wie z.B. HAuCl₄ beladen werden. Selbstorganisationsprozesse führen bei Deposition auf glatten Oberflächen durch Aufziehen oder Spin Coaten zu einer hexagonalen Anordnung. Nach Entfernung des Polymers in einem H₂- oder O₂-Plasma erhält man so hexagonal geordnete Nanoteilchen, deren Größe und Abstand durch die Salzbeladung und Polymerkettenlängen bestimmt werden. Durch elektrodenloses Wachstum in Chrom- oder Goldsalz-/Reduktionsmittellösungen lassen sich diese Nanoteilchen gezielt vergrößern und als Masken beim anisotropen Plasmaätzen verwenden, um z.B. Nanosäulen oder, in einem komplexeren Prozeß, Nanolöcher in Silizium herzustellen.
Der mizellare Ansatz läßt sich auch mit Elektronenstrahllithographie kombinieren. In definierten Fenstern von Lack- oder Metalltemplaten lassen sich Mizellen einfüllen und anschließend veraschen. Beim Lift-off der Maske werden die darauf liegenden Teilchen mit entfernt, so dass sich nur noch die Teilchen auf der Oberfläche befinden, die direkt auf dem Substrat aufgebracht wurden. Beispiele hierfür werden demonstriert.