Berlin 2005 – scientific programme
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O: Oberflächenphysik
O 40: Adsorption an Oberfl
ächen IV
O 40.5: Talk
Tuesday, March 8, 2005, 11:45–12:00, TU EB202
Nanostrukturiertes Eisenwachstum auf einem Aluminiumoxidfilm auf Ni3Al(111) — •Aleksander Krupski, Stefan Degen, Marko Kralj, Conrad Becker und Klaus Wandelt — Institut für Physikalische und Theoretische Chemie, Wegelerstr. 12, 53115 Bonn
Ein bei einer Temperatur von 1000 K in einer Sauerstoffatmosphäre auf einer Ni3Al(111)-Oberfläche gewachsener doppellagiger Aluminiumoxidfilm weist eine hexagonale Überstructur der Gitterkonstante 2,40 nm auf [1] und erweist sich dadurch als Templat für nanostrukturiertes Eisenwachstum. Die mittels eines Metallverdampfers im UHV bei Raumtemperatur aufgewachsenen Eisenschichten wurden mit Rastertunnelmikroskopie bei Raumtemperatur sowie bei 23 Kelvin untersucht. Es findet ausschließlich Clusterwachstum statt, und die Nukleation der Cluster wird von der Oxidüberstruktur bestimmt. Die aufgewachsenen Cluster besetzen genau die Gitterpunkte dieser hexagonalen Überstructur. In früheren Experimenten wurde bereits Mangan und Vanadium auf den gleichen Oxidilm aufgewachsen [2]. Die Ordnung der Eisencluster ist nicht ganz so gut wie diejenige der Vanadiumcluster, aber deutlich besser als die der Mangancluster. Bei sehr niedrigen Eisenbedeckungen konnte der Templateffekt, den der Oxidfilm auf die Eisennukleation ausübt, deutlich gezeigt werden. Weiterhin wurden tunnelspektroskopische Messungen an einzelnen Eisenclustern durchgeführt, deren Interpretation sich aufgrund der Komplexität des Systems als schwierig erwiesen hat.
[1] A. Rosenhahn et al., J. Vac. Sci. Technol. A 18 (2000) 1923.
[2] C. Becker et al., New J. Phys. 4 (2002) 75.