Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 48: Oxide und Isolatoren II
O 48.6: Vortrag
Dienstag, 8. März 2005, 17:00–17:15, TU EB107
ESR-spektroskopische Untersuchung zur Bildung und Reaktivität von Oberflächen-Farbzentren auf dünnen MgO-Filmen — •Esther Fischbach, Martin Sterrer, Thomas Risse und Hans-Joachim Freund — Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft, Abteilung Chemische Physik, Faradayweg 4-6, 14195 Berlin
Die chemischen und physikalischen Eigenschaften von Oxid-Oberflächen werden entscheidend von der Anwesenheit von Defekten beeinflusst. Die Aufklärung der Reaktivität der Oberfläche erfordert daher eine genaue Untersuchung der Natur und elektronischen Eigenschaften von Defektstrukturen. Farbzentren, i.e. neutrale oder einfach positiv geladene Anionenfehlstellen auf MgO, sind in diesem Zusammenhang von herausragender Bedeutung, da sie einerseits durch die Möglichkeit eines Elektronentransfers auf molekulare Adsorbate zur chemischen Reaktivität der Oberfläche beitragen, andererseits die elektronischen Eigenschaften von adsorbierten Metallclustern verändern.
In der vorliegenden Arbeit wurden dünne MgO-Filme (20ML) auf einkristallinen Substraten hergestellt und mittels Elektronen-Spin-Resonanz-Spektroskopie untersucht. Während auf den frisch gewachsenen MgO-Filmen keine Farbzentren detektiert werden konnten, bewirkt Elektronenbeschuss eine deutliche Veränderung der Oberflächen-Morphologie und führt zu einem den Farbzentren zuzuordnenden ESR-Signal. Die Reaktivität der Oberflächen-Farbzentren gegenüber einfachen molekularen Adsorbaten wie O2, CO, N2O und NO wurde untersucht.