Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 6: Grenzfl
äche fest-flüssig
O 6.5: Vortrag
Freitag, 4. März 2005, 11:45–12:00, TU EB407
Elektrochemisch präparierte ultradünne Kupfersulfidfilme auf Au(111)-Oberflächen — •Christian Schlaup, Daniel Friebel, Peter Broekmann und Klaus Wandelt — Institut für Physikalische und Theoretische Chemie, Universität Bonn, Wegelerstr. 12, D-53115 Bonn
In alkalischen Lösungen wurde die Adsorption von Sulfid (S 2−) auf ultradünnen Kupferfilmen durch in-situ Rastertunnelmikroskopie in Verbindung mit zyklischer Voltrammetrie untersucht. Hierzu wurde auf einem Au(111)-Einkristall durch Unterpotential-Abscheidung entweder eine (√3 × √3)R30∘ 2/3-Monolage oder eine vollständige (1×1) Cu-Monolage erzeugt. Auf den so erzeugten Cu-Filmen wurde anschließend Sulfid aus 0.1 M Natronlauge (pH ≈ 13) adsorbiert. Die dabei gebildeten potentialabhängigen Adsorbatstrukturen unterscheiden sich grundlegend von den bekannten Adsorbatstrukturen von Sulfid auf Au(111) bzw. Cu(111)-Oberflächen und werden im Folgenden vorgestellt und charakterisiert.