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P: Plasmaphysik

P 14: Poster: Niedertemperaturplasmen / Plasmatechnologie 6, Diagnostik 4

P 14.23: Poster

Samstag, 5. März 2005, 14:45–16:45, Poster HU

ICP OES Präzisionsmessverfahren für die Elementanalytik — •Olaf Rienitz — Bundesallee 100, 38116 Braunschweig

Das Präzisionsmessverfahren mit Hilfe der ICP OES (Inductive Coupled Plasma Optical Emission Spectroscopy, Spectro Ciros CCD) beruht auf der Plasma-Fluoreszenzemission des untersuchten Elements. Dabei werden bis zu 10 verschiedene Spektrallinien einer frisch präparierten primären Lösung sowie einer Lösung unbekannten Elementgehaltes analysiert. Die Vielzahl der für die Analyse nutzbaren Spektrallinien wird durch die hohe Anregungsenergie, die im Plasma zur Verfügung steht, erreicht. Die Fluoreszenz wird über einen Gittermonochromator spektral zerlegt und simultan im Spektralbereich von 130 nm bis 750 nm mit Hilfe eines CCD-Arrays detektiert. Der Elementgehalt der primären Lösung wird anhand der Peakflächen iterativ an den der unbekannten Lösung angepasst. Als interner Standard wird überwiegend Yttrium verwendet. Die Lösungen werden im sog. Bracketing-Verfahren gemessen. Mit diesem Verfahren ist es gelungen, am Beispiel von Cu- und Fe-Lösungen relative Messunsicherheiten im Bereich von 0,05 bis 0,07 Prozent für den Massenanteil zu erreichen. Die vorgestellte Methodik ist Teil des Projektes Rückführungssystem für die Elementanalytik.