Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 3: Vakuumverfahren und Komponenten 1

Montag, 7. März 2005, 14:00–15:30, TU E20

	14:00	VA 3.1	Hauptvortrag: Gated Electron Source with CNT Field Emitter for Vacuum Triode Application — •Wolfram Knapp and Detlef Schleußner
	14:30	VA 3.2	Shutter-transients during solid-source epitaxy — •Christian Heyn and Sabine Cunis
	14:50	VA 3.3	Inductively coupled HF Plasma beam source for Ion beam assisted deposition in a boxcoater — •M. Klosch, H.-J. Eifert, H. Hagedorn, and R. Beckmann
	15:10	VA 3.4	Solarthermische Vakuumpyrolyse von Oxidmineralen — •Markus Sauerborn