Augsburg 2006 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 15: Diagnostik 2; Niedertemperaturplasmen / Plasmatechnologie 5; Plasma-Wand Wechselwirkung 1

P 15.23: Poster

Dienstag, 28. März 2006, 17:00–19:00, Flure

Abscheidung von siliziumhaltigen Schichten auf Mikroteilchen in dielektrisch behinderten Plasmen unter Atmosphärendruck — •Marcel Hähnel, Volker Brüser und Holger Kersten — INP Greifswald, F.-L.-Jahn Straße 19, 17489 Greifswald

Die vorliegende Studie befaßt sich mit der Abscheidung von homogenen und geschlossenen SiO2-haltigen Schichten auf Mikroteilchen. Diese Schichten wurden aus Hexamethyldisiloxan (HMDSO) und Tetraethylorthosilicat (TEOS) unter Bemischung verschiedener Gaszusammensetzungen deponiert. Die Untersuchungen zur Abscheidung solcher SiO2-haltigen Schichten erfolgte auf Kaliumbromidpulver in der Größenordnung von 10 bis 80 Mikrometer. Für die Beischichtung wurde eine dielektrisch behinderte Oberflächenentladung verwendet, die durch Modifikationen auch für eine kontinuierliche Arbeitsweise geeignet ist. Die Entladung wurde gepulst mit Spitzenspannungen von 14 kV bei einer Pulswiederholrate von 10 kHz betrieben. Als Spannungsquelle diente ein Fourier-Synthese Impulsgenerator mit einer Ausgangskapazität von 200 pF.

Die Bewertung der Schichten erfolgte durch Oberflächenanalytik (FTIR, REM), sowie makroskopischer Tests zur Bestimmung der physikalisch-chemischen Eigenschaften.