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P: Plasmaphysik

P 4: Diagnostik 1; Niedertemperaturplasmen / Plasmatechnologie 2; Magnetischer Einschluß 2

P 4.18: Poster

Montag, 27. März 2006, 17:00–19:00, Flure

Thermische Desorption dünner plasmaabgeschiedener a-Si:H- und a-C:H-Schichten — •Raphaela Weiss, Janine-Christina Schauer und Jörg Winter — Institut für Experimentalphysik II, Ruhr-Universität Bochum

Zur Untersuchung der flüchtigen Komponenten von a-C:H- und a-Si:H-Schichten wurde die thermische Desorptionsspektroskopie verwendet. Die Schichten wurden in Kohlen-Wasserstoff - bzw. Silan-Plasmen bei verschiedenen Parametern auf Siliziumwafern abgeschieden. Danach wurden die Proben in einer selbst entwickelten Desorptionskammer durch Strahlungsheizung bis auf ca. 1000^∘C aufgeheizt und die flüchtigen Bestandteile mithilfe eines Quadrupol-Massenspektrometers detektiert. Durch eine vorherige Absoluteichung des Massenspektrometers und eine Temperaturkalibrierung mithilfe eines Teilstrahlungspyrometers kann sowohl eine Aussage über die Anzahl der desorbierten Bestandteile, als auch über die charakteristischen Ausdampftemperaturen gemacht werden. Gezeigt werden Ergebnisse dieser Desorptionsmessungen, welche auch mit Ergebnissen aus FTIR-Messungen verglichen und diskutiert werden.