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P: Plasmaphysik
P 4: Diagnostik 1; Niedertemperaturplasmen / Plasmatechnologie 2; Magnetischer Einschluß 2
P 4.3: Poster
Montag, 27. März 2006, 17:00–19:00, Flure
Untersuchungen an gepulsten reaktiven Magnetron Entladungen für hochpräzise optische Glasbeschichtungen mit Zeitauflösung im Sub-Mikrosekunden Maßstab — •Swen Marke1, Till Wallendorf1 und Michael Vergöhl2 — 1IfU GmbH, G.-Schenker-Str. 18, 09244 Lichtenau — 2FhG IST, Bienroder Weg 54 E, 38108 Braunschweig
In jüngster Zeit werden reaktive Sputterprozesse zunehmend für hochpräzise optische Glasbeschichtungen angewandt. Im Die Verwendung metallischer Targetmaterialien verspricht niedrigere Targetkosten, deutlich höhere Abscheideraten und einen größeren Bereich zur Beeinflussung der dielektrischen Funktion der abgeschiedenen Schichten. Dafür ist ein erhöhter Aufwand zur schnellen Prozessregelung nötig.
Zeitaufgelöste OES Daten liefern Informationen über Änderungen in der Gasentladung, die u.a. durch Targetabnutzung, Änderungen im Gasfluss oder auch durch die Prozessregelung selbst verursacht werden können. Mit kleiner Zeitauflösung (<1000ns) erhält dynamische Aussagen zu den im Plasma ablaufenden Vorgängen.
Mit Hilfe eines neuartigen AO Spektrometers wurde das Zeitverhalten einer gepulsten Magnetronentladung untersucht. Die exzellente Wellenlängenauflösung von 0.5nm bei 800nm und 0.05nm bei 250nm erlaubt hierbei den Zugriff auf zahlreiche optische Übergänge. Das optische Signal wird mit einem mehrkanaligen Photomultiplier aufgefangen, verstärkt und mit 20ns Zeitschritt aufgezeichnet. Reaktive Entladungen von mehreren Targetmaterialien wurden bei verschiedenen Arbeitspunkten und Plasmaquellenkonfigurationen untersucht.