Dresden 2006 – wissenschaftliches Programm
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DS: Dünne Schichten
DS 24: Poster presentation
DS 24.42: Poster
Dienstag, 28. März 2006, 15:00–17:30, P2
Abscheidung von siliziumhaltigen Schichten auf Mikroteilchen in dielektrisch behinderten Plasmen unter Atmosphärendruck — •Marcel Hähnel, Volker Brüser, and Holger Kersten — INP Greifswald, F.-L.-Jahn Straße 19, 17489 Greifswald
Die vorliegende Studie befaßt sich mit der Abscheidung von homogenen und geschlossenen SiO2-haltigen Schichten auf Mikroteilchen. Diese Schichten wurden aus Hexamethyldisiloxan (HMDSO) und Tetraethylorthosilicat (TEOS) unter Beimischung verschiedener Gaszusammensetzungen deponiert. Die Untersuchungen zur Abscheidung solcher SiO2-haltigen Schichten erfolgte auf Kaliumbromidpulver in der Größenordnung von 10 bis 80 Mikrometer. Für die Beschichtung wurde eine dielektrisch behinderte Oberflächenentladung verwendet, die durch Modifikationen auch für eine kontinuierliche Arbeitsweise geeignet ist. Die Entladung wurde gepulst mit Spitzenspannungen von 14 kV bei einer Pulswiederholrate von 10 kHz betrieben. Als Spannungsquelle diente ein Fourier-Synthese Impulsgenerator mit einer Ausgangskapazität von 200 pF.
Die Bewertung der Schichten erfolgte durch Oberflächenanalytik (FTIR, REM), sowie makroskopischer Tests zur Bestimmung der physikalisch-chemischen Eigenschaften.